蛋白质纤维 　 protein fiber　 见动物纤维(145页)。

氮化　 nitriding　 又称渗氮。将钢件放入具有一定氮活度的介质中加热保温,使钢件表层氮含量升高形成富氮硬化层的化学热处理工艺。常采用气体氮化方法,氮化温度略低于Fe-N系共析温度,多在480~590℃,氮化时间为数十小时,氮化层深度零点几毫米。由于氮在铁素体中的固溶度很小,因而氮化层主要是氮化物层,硬度可达HV950~1200。氮化前钢件一般需经调质处理,氮化后则不再进行热处理。离子氮化和软氮化均是加速渗氮的工艺。为加强渗氮硬化效果,氮化钢种一般应含有强氮化物形成元素如钼、铝、钒、铬等。

氮化钢　 见渗氮钢(665页)。

氮化硅膜　 silicon nitride film　 以 Si3N4为电介质的薄膜材料。它具有抗钠离子沾污、针孔密度低、化学稳定性好等优点。化学气相沉积的Si3N4薄膜性能,击穿场强为1×107V/cm,大约是SiO2薄膜的2倍。其介电常数比SiO2高50%~70%。氮化硅薄膜的制备方法主要有两种:①化学气相沉积法,一般用SiH4-NH3-H2系或SiCl4-NH3-H2系气相反应生成Si3N4薄膜;②射频溅射法。在混合集成电路中,Si3N4薄膜可用来做钝化层,也可制作薄膜电容器如MNOS电容器。在半导体集成电路中,Si3N4膜用作PN结的保护膜。这种薄膜有阻止Na+移动的作用,能提高器件的稳定性。

氮化硅陶瓷　 silicon nitride ceramics　 一种非氧化物陶瓷。具有高强度、高弹性模量、耐磨、耐蚀、抗氧化等优良性能。Si3N4是共价键化合物,属六方晶系,存在α型和β型两种晶型。Si-N间的键合强度高,为难烧结物质。常用的制备方法有:反应烧结、无压烧结、气氛加压烧结、热压和高温等静压烧结。除反应烧结外,均可获得高致密化的材料。氮化硅陶瓷性能与其制备方法密切相关,一般室温强度可达700~1000MPa,高温强度受晶界玻璃相影响。氮化硅陶瓷的优异性能使其在许多领域得到应用并有许多潜在的用途。在陶瓷发动机中,用来制备定子、转子、涡形管等部件。在冶金、化学、机械、电子和军事工业上也有广泛的应用。

氮化铝　 aluminum nitride 　 无色六方晶系晶体。密度3.35g/cm3。熔点3000℃。有良好导热性、绝缘性、介电性能和冲击强度且热膨胀系数小,热导率高,抗熔融金属的侵蚀能力强。由铝粉在氨或氮气中于800~1000℃合成;或由氯化铝与氨经气相反应制得。是良好的耐热冲击材料和电子器件的表面涂覆材料。还用于制造赛隆陶瓷、氮化铝增强陶瓷材料、氮化铝弥散钢及由六方氮化硼转变为立方氮化硼的催化剂等,是制作电极的主要材料。

氮化硼制品　 boron nitride product　 以BN为主要成分的耐火制品。BN通常为六方晶型(与石墨性质相似),在高温和超高压下可转化为立方晶型(与金刚石超硬材料相似)。具有优良的热震稳定性,良好的抗酸、碱侵蚀性,可机械加工。

　β-氮氧化硅铝:铕(Ⅱ)　 β-silicon aluminium oxynitride activated by europium　 β-SiAlON:Eu2+。它的组成组成可以写作Si6-zAlzOzN8-z(0 < z ≤ 4.2)。白色粉末,属于六方晶系和P63空间群。例如当z=0.17时,晶胞参数 a=b=7.609 Å、c=2.9115 Å,激发谱为分别以303nm和400nm为中心的宽带叠加而成,最大激发峰位于303nm左右。相应的发射谱带位于430~550nm,为一个对称宽带发射峰,谱峰位于490~620nm,半峰宽为55nm左右。合成方法:Si3N4、AlN、Al2O3、Eu2O3等固体粉末混合均匀后,在N2气压为1.0MPa下1900℃左右高温灼烧合成。它的主要用途为LED用绿色荧光粉。

氮氧化物储存还原催化材料　 nitrogen oxides storage-reduction catalysts　 机动车在贫燃条件下[空燃比大于理论空燃比(14.6~14.7)]下运行可有效降低CO2和CH的排放和提高燃料燃烧效率,但氧浓度升高条件下NOx还原效果差。氮氧化物储存还原催化材料就是用来解决贫燃条件下NOx引发的污染问题。将贵金属(尤其是Pt)、碱或碱土金属(Na+、K+、Ba2+)以及稀土氧化物(主要是La2O3)浸渍负载在氧化铝上,经过高温焙烧制成。大部分NSR催化材料是以贵金属作为催化活性成分,以碱或碱土金属作为NOx储存材料。在富氧条件下NO首先在贵金属上被氧化成NO2,然后与氮氧化物储存反应形成硝酸盐,以硝酸离子的状态暂时被吸收在Ba等吸收储存材料中。当吸收到一定程度时,使发动机在浓于理论空燃比的混合油气下燃烧,这时会产生多余的CO、HC和H2,在再利用它们将氮氧化物还原成无害的N2和H2O,CO、HC同时也被催化消除。NSR催化材料在很宽的温度范围都有相当高的NOx转化率,最大转化率可达90%以上。

氮氧化物分解催化材料　 catalytic decomposition materials of nitrogen oxides　 能提高氮氧化物的分解速度,降低反应活化能,促使 NOx分解生成无毒无害的N2和O2的催化材料。主要有贵金属、金属氧化物、金属离子交换分子筛催化材料、三效催化材料、NO的选择催化还原剂等五类。①贵金属催化材料常用的有Pt、Pt-Rh、Pd-Au等单金属及其合金,载体常用Al2O3、SiO2、ZnO等,一般用浸渍法负载贵金属。通过NO分子吸附在活性中心原位离解为氧和氮原子,再以分子氧和分子氮脱附,释放活性中心来达到催化作用。其催化活性高、抗硫中毒能力和抗水蒸气失活能力强,但操作温度范围窄,有氧阻抑现象。②金属氧化物催化材料有Co、Ni、Cu、Fe、Zr、Ti等氧化物,可直接分解NO,分解NO的活性与氧化物中晶格氧的M—O键强有关,键强度越低,金属氧化物活性越高。③金属离子交换分子筛催化材料,是将Cu、CO、Fe、Ni等过渡元素通过离子交换法负载于ZSM或Y型沸石上,将NOx直接分解成N2和O2,反应温度较高。④三效催化材料(见三效催化材料词条)。⑤NO的选择催化还原剂,氨选择还原(NH3-SCR),NH3-SCR可将NOx还原为氮气,在潮湿、富氧和含硫条件下具有较长的使用寿命,应用广泛,但易造成氨污染。烃类选择还原(HC-SCR)可与NO反生催化反应生成N2、CO2和H2O,此法较NH3-SCR更加环保。

氮氧化物固体吸附剂　 nitrogen oxide solid adsorbent　 常用的吸附剂有多孔类分子筛、活性炭等、颗粒类硅胶和含氨洗煤等,其中分子筛、活性炭、硅胶等兼有催化氧化的性能。用于吸附氮氧化物多孔类分子筛的主要为丝光沸石Na2A12Si10O2·7H2O,该物质对N 有较高的吸附能力,在有氧条件下,能够将NO氧化为NO2加以吸附,吸附容量大、吸附速度快、改变温度或压力,可控制NOx的吸收和解吸,使NOx从气源中分离出来;活性炭对NOx具有吸附和还原作用,使吸附到其表面的NOx转化成氮气,但对NOx的吸附容量小且解吸再生麻烦,处理不当会造成二次污染;硅胶作为可将NO氧化为NO2,再加以吸附,经过加热便可解吸,当NO2的浓度高于0.1%、NO的浓度高于1%~1.5%时,效果良好,但气体含固体杂质时会堵塞吸附剂空隙而使吸附剂失去作用;含氨洗煤作为吸附剂来处理NOx废气,生成硝酸铵或亚硝酸胺,吸附NOx后的泥煤,可直接用作为肥料不必再生。吸附法净化NOx的优点是净化效率高、无需消耗化学物质,设备简单、操作方便,缺点是因吸附容量小、需要的吸附剂量大、设备庞大、吸附剂需要进行再生处理且净化过程为间歇操作,因此该法仅适用于NOx浓度低、气量小的废气处理。

导电玻璃　 conductive glass　 在熔融状态时,核外电子得到能量,可以脱离核的束缚,成为可以自由移动的自由电子,能导电的玻璃。

　ITO导电玻璃基板　 indium tin oxide(ITO)glass　 是指在表面镀制有ITO透明导电膜的玻璃,是透明导电氧化物玻璃(transparent conductive oxide coated glass;TCO glass)的一个重要分支。ITO(indium tin oxide,铟锡氧化物)薄膜的导电性来自于SnO2中的Sn取代In2O3中的In形成的n型半导体特性,具有10-4Ω·cm量级的电阻率。同时因ITO薄膜的宽能带性,使其具有良好的可见光波段透过率,但紫外波段透过率低、红外波段反射率高。ITO透明导电膜主要通过真空镀膜方式镀制在玻璃基板上,靶材通常为ITO陶瓷靶。镀膜方式以直流磁控溅射为主,特殊方式还有直流加射频磁控溅射,以及升华成膜方式。ITO靶形状分为平面靶(适用于固定磁场和移动磁场)、筒状靶(磁场固定,靶材旋转)和柱状靶(适用于升华成膜方式)。ITO透明导电膜具有良好的化学蚀刻性,易于制作电极图形。ITO导电玻璃因其既透明又导电的特性,通常用于制作窗口电极,广泛用于显示器件、触摸屏和光电器件上。按其使用领域不同,基板玻璃材质主要分为普通钠钙玻璃、无碱硼硅玻璃和化学强化后的高铝硅玻璃等,基板玻璃厚度范围通常为0.2~1.1mm。基板玻璃外形以平板为主,少有曲面。以钠钙玻璃作为基板用于制作液晶显示器件的ITO导电玻璃,还需先在玻璃表面镀制一层SiO2膜(约25nm厚),以阻挡玻璃中的碱金属离子扩散到液晶中,进而影响显示效果。

导电材料　 conductive material　 导电材料是指电流容易通过的材料,通常用作电极、电刷、电线等。作为导电材料,希望其电阻率尽可能地小(≤10-6Ω·cm)。但是,为了满足其他条件,例如机械强度、加工性、耐腐蚀性、经济性等,在许多情况下也会使用电阻率较大的材料。

导电高分子吸波材料　 conductive polymer radar absorbing materials　 通过改变导电高分子的主链结构、掺杂等方法以获得吸收电磁波性能的一类材料。导电高分子本身是由具有共轭主链的绝缘分子(如聚乙炔、聚苯胺、聚吡咯等)通过化学或电化学方法与电子受体(即掺剂)进行电荷转移复合而获得导电性能的。对这类材料进行分子设计就可以合成出综合性能优良的吸波材料。而视黄基席夫碱高分子则是利用其高氯酸抗衡离子在外场作用下(如光辐照)极易从碳原子骨架上发生转移的性质,将电磁能转化成热能达到吸收电磁波效果的。