光敏固化成型　 stereo lithography　 见立体光刻(471页)。

　光敏聚合 　 photosensitized polymerization　 在光敏剂存在下,将其激发能传递给反应分子并促进光反应进行的光聚合。光敏剂是只吸收光子并将能量传递给那些不能吸收光子的分子,促其发生化学反应,而本身则不参与化学反应,恢复到原先的状态。常用光敏试剂是芳香族酮类和安息香醚类:如苯甲酮、安息香二甲醚等。光敏聚合广泛应用于光固性涂料、油墨、制版和其他固化技术。

　光敏抗蚀胶　 见光敏胶黏剂。

　光敏性介电材料　 photosensitive dielectrics　 泛指一类应用于集成电路多层布线工艺中的层间绝缘材料。该材料对特定波长的光线,如i-线(365nm)、g-线(402nm)、深紫外(248nm、193nm)等敏感,可采用光刻工艺进行制图、通孔等工艺操作。常见光敏性介电材料包括光敏丙烯酸酯(acrylate)、光敏聚酰亚胺(polyimide)、光敏聚苯并唑(polybenzoxazole)、光敏环氧树脂、光敏苯并环丁烯等。上述材料除了具有光敏感特性外,常常还具有高绝缘特性,包括高体积电阻率、高表面电阻率以及高绝缘强度等。

　光盘存储材料　 optical disk storage materials　 一种具有记录(写入)、存储和读出功能的材料。光盘的存储介质,它与聚焦的激光束相互作用,产生物理和化学反应,形成记录点,其性质与周围介质不同,产生一个反差,由此可以读出信号。如果物理和化学变化是不可逆的,这是只读式(ROM)和一次写入多次读出(WORM)光盘材料。变化是可逆的材料用来制作可擦重写光盘(ERS)。根据激光和材料相互作用的物理和化学反应的不同,光盘存储材料可分为:烧蚀型、态变型、磁光型、相变型、光色型、电子俘获型、光子选通型等。前两类主要用于一次写入和多次读出(WORM)光盘,后五类为实用化和正在研究开发中的可擦重写(ERS)光盘存储材料。一般用磁控溅射法和电子束蒸镀法制成光盘存储薄膜,厚度在20~50nm。主要特征性能为:① 对写入、读出和擦除激光的敏感性,用单模激光束聚焦后(焦斑<1μm)的激光功率和脉宽来表示,写入、读出和擦除的激光功率分别为<15mW、5mW、15mW,激光束脉宽<200ns;② 存储信息的稳定性,一般要求在10年以上;③ 擦写循环次数在106次以上;④ 读出信号的载噪比>15dB;⑤ 原始误码率<10-4。

　光谱增感染料　 见增感染料(898页)。

　光褪色材料　 photobleaching materials　 在光的作用下,能直接或间接褪色的有色物质。光褪色材料主要应用在成像过程中。例如,利用染料的光褪色效应获得正性拷贝。光褪色或光漂白成像系统有两类:①以具有稳定自由基的有机化合物为基础的系统,这个系统通常为含有中心氮或中心氧自由基的有机化合物,例如,α,α'-二苯基苯基间三硝基苯肼、联吡啶、杂环氮氧化合物以及苯氧基化合物;②以染料的光致还原或光致氧化而成像的系统。

　光稳定剂　 light stabilizer;photo stabilizer　 指凡能抑制或减缓由于光氧化作用而使高分子材料发生降解而加入的物质。光稳定剂能屏蔽、反射或者吸收紫外线并将其转化为无害的热能,使降解产物过氧化物进行非自由基分解;可使被紫外线激发的分子或基团的激发态猝灭回复到稳定基态,排除或减缓发生光氧化还原反应的可能性;可钝化金属离子;能有效地捕捉紫外线引发的自由基,从而可使高分子材料免受紫外线破坏。按照稳定机理,光稳定剂一般可分为:①光屏蔽剂。主要有炭黑、氧化锌、二氧化钛和锌钡等。②紫外线吸收剂。在工业上应用最多的是二苯甲酮类、水杨酸类和苯并三唑类等。③猝灭剂。主要是金属络合物,如镍、钴、铁的有机络合物。④自由基捕获剂。主要是受阻胺类衍生物,按化学结构可分为水杨酸酯类、二苯甲酮类、苯并三唑类、三嗪类、取代丙烯腈类、草酰胺类、有机镍化合物类、受阻胺类等。选择光稳定剂应考虑以下因素:①能有效地吸收290~400nm波长的紫外线,或能猝灭激发态分子的能量,或具有捕获自由基的能力;②自身的光稳定性及热稳定性好;③相容性好,使用过程中不渗出;④耐水解、耐水和其他溶剂抽提;⑤挥发性低,污染性小;⑥无毒或低毒,价廉易得。

　光纤激光器光纤　 fiber laser fiber　 是指用掺稀土元素玻璃光纤作为增益介质的激光器。光纤激光器可在光纤放大器的基础上开发出来:在激励光的作用下光纤内极易形成高功率密度,造成激光工作物质的激光能级“粒子数反转”,适当加入正反馈回路(构成谐振腔)便可形成激光振荡输出。

　红外激光玻璃　 infrared laser glass　 指能激发出红外线(0.76~20μm)的激光玻璃。

　红外陶瓷　 infrared ceramics　 对波长为0.76~1000μm红外波段的电磁波具有透过、吸收或辐射功能的陶瓷材料。按其功能可分为:①红外透过陶瓷,通常称为红外光学材料,是用来制造红外光学仪器透镜、棱镜、滤光片、调制盘、窗口、整流罩等不可缺少的材料,包括玻璃(硅酸盐玻璃、锗酸盐玻璃、碲酸盐玻璃等)、晶体(卤素化合物晶体、氧化物晶体及半导体晶体等)、透明陶瓷(Al2O3、Y2O3、ZrO2等);②红外吸收陶瓷,其代表组成为P2O5 70.7%,K2O 10.0%,Al2O3 10.0%,FeO2.5%,B2O3 4.0%,ZnO 1.0%;或SiO271.5%,Al2O3 1.0%,FeO 1.5%,B2O3　8.0%,ZnO 12.0%,Na2O 6.0%的玻璃,最新研究成果发现钨青铜系列纳米粉末可有效吸收红外线;③红外辐射陶瓷,主要用于红外辐射加热器,其代表为碳化硅、锆英砂等。

　红柱石　 andalusite　 岛状结构硅酸盐矿物。化学式为Al2[SiO4]O。常含Mn、Fe和炭质。斜方晶系,空间群-Pnnm。柱状晶体,横断面近正方形。常呈放射状集合体(称为菊花石)。红柱石在生长过程中常俘获部分炭质和黏土物质成定向排列,纵向上的分布与柱体延长方向一致,在横断面上呈黑十字,称为空晶石。灰色,含Mn、Fe者呈浅玫瑰红,亦呈黄、绿色,风化后呈灰色。玻璃光泽。平行{110}有两组中等解理。莫氏硬度6.5~7.5,密度3.15~3.16 g/cm3。典型的接触热变质矿物,产于泥质岩石与侵入体接触带。是铝质耐火材料原料。色泽鲜艳的粉红色者可作宝石。

　宏观量子隧道效应　 macroscopic quantum tunneling effect 　 又称量子隧穿效应。是指微观粒子本身具有的能量低于势垒高度时,该粒子仍然具有一定概率穿过势垒的现象。它是微观粒子的一种量子特性,不能用经典力学的观点来解释,而必须用量子力学的理论去阐述。量子隧穿效应的最典型代表体系为两层金属薄膜被一层绝缘体或者半导体薄膜(势垒层)隔开而构成的三明治结构,由于绝缘体或半导体材料中的势垒高度较高,在经典力学中,金属中的电子是无法穿越势垒层,体系的电导率为零(电阻率为无穷大);但按照量子力学的观点,电子具有一定的概率隧穿过势垒层,从而到达另一层金属薄膜,体系具有一定的电导率。在实验中,如果势垒层的厚度足够薄(通常为1~3nm),就可以测量到一定的电阻。如果势垒层两面的金属薄膜具有铁磁性,体系的电导率还与铁磁性薄膜的相对取向有关。铁磁性薄膜的磁化强度平行排列时,体系的电导率较高,处于低电阻态(如二进制中的“0”);当两个磁化强度处于反平行排列时,体系处于高阻态(如二进制中的“1”)。该高低阻态即可用于磁信息技术,如用作计算机硬盘中的读头。

　虹吸管层流冷却　 见管层流冷却(266页)。

　洪德法则　 Hund’s rule　 常被译为洪德定则或洪德规则。该法则是关于原子核外电子排布规律的物理定律之一。洪德法则对于核外电子在轨道上的排布顺序作了如下规定:①对于一个确定的电子系统,具有最大多重度的轨道电子组态能量最低。取S为系统中全部电子的总自旋角动量,则组态的多重度等于2S+1。因此,具有最大S的轨道电子组态能量最低。②在组态的总自旋量子数S相同时,总角动量量子数L最大的组态能量最低。③对于总电子数小于或等于满壳层电子数一半的系统,总量子数J(J=L+S)最小的组态能量最低;对于总电子数大于满壳层电子数一半的系统,总量子数J最大组态的系统能量最低。