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  • 堇青石陶瓷

     堇青石陶瓷  cordierite ceramics  以堇青石(2MgO·2Al2O3·5SiO2)为主晶相的陶瓷。压缩强度280~500MPa,拉伸强度25~40MPa,弯曲强度50~60MPa,冲击强度1.8~2.2cm·kg/cm2,线膨胀系数(1.1~1.8)×10-6-1(20~100℃),平均热导率3.35~5.02kJ/(m2·h·)(0~100℃),耐冷热温度300~500℃,绝缘电阻2.3~5.6MΩ·cm(400~600℃)。介电损耗角正切200×10-4(50Hz);40×10-4(500Hz)。耐火度约1400℃。其离子排列不紧密,晶格内有巨大空腔,电性能差,介质损耗高,不能用于高频场合;具有非常小的热膨胀系数,故热稳定性较高;它的耐酸性差,不能用于酸侵蚀的场所,生成堇青石瓷的组成范围很广。越靠近理论组成点,材料的线膨胀系数就越低。主要原料为滑石、黏土、氧化铝、长石等。用一般陶瓷工艺制造。烧结范围较窄,最适宜的烧成温度约为1410℃,在此温度长时间保温则生成堇青石的过程进行较完全,烧结温度与堇青石分解温度只差几摄氏度,难获得致密体,温度稍偏高会出现大量低熔液相,制品易变形。坯料中加入5%~30%ZrO2,可以扩大烧结范围。如再加入适量的硅酸锆及透锂长石或锂辉石,也可得到性能优异的堇青石瓷。多孔的堇青石瓷用作普通耐热绝缘材料,也可用作线圈骨架,耐电弧作用的电绝缘材料、复合材料的基料,电热绝缘装置的燃烧器喷嘴的材料等。

  • 近晶相液晶

     近晶相液晶  见铁电液晶(744)

  • 近α钛合金

     α钛合金  near α titanium alloy  α固溶体为基,在稳定状态下含2%~8%β,β区急冷后含8%~15%β相的钛合金。它综合了α钛合金和α-β钛含金的优点,既具有优良的高温抗蠕变能力、良好的热稳定性和较好的焊接性能,还具有较好的工艺塑性,其成分中主要含有α稳定元素铝、锡和锆等和少量α稳定元素MoVMnCu等。其铝当量一般应限于8%,钼当量一般应小于2%。按铝当量划分,此合金可分为低铝当量和高铝当量两大类。前者的典型合金为Ti-2Al-1.5MnTi-2.5Cu,后者的典型合金为Ti-8Al-1Mo-1VTi-6Al-2Sn-4Zr-2MoTi-5.5Al-2.5Sn-3Zr-1Nb-0.3Mo-0.3Si等。这类合金不能热处理强化,但可以控制微观组织类型,如等轴组织、双态组织和网篮组织等,以达到综合力学性能的匹配。

  • 浸灰

     浸灰  liming   用以石灰为主的碱性材料处理原料皮的操作。目的是松散胶原纤维结构和除去纤维间质,一般和脱毛同浴进行。

  • 浸酸

     浸酸  pickling  利用酸降低在制品的pH值使之满足后续鞣制所需pH的操作。也可进一步松散胶原纤维,浸酸时需要加入盐类物质以抑制酸膨胀。

  • 浸涂

     浸涂  dipping coating  把被涂物置入涂料液中,经一定时间后取出,并滴尽余漆的漆涂装方法。按其设备和操作的不同,可分手工浸涂、传动浸涂、回转浸涂、真空浸涂及浸涂-流涂法等多种。浸涂的主要影响因素有涂料黏度、进涂时间、工件入槽出槽速度、滴漆时间等。

  • 京粉翠

     京粉翠  Beijing jade  又称桃花石、桃花玉、玫瑰石、粉翠。是以蔷薇辉石为主要成分的致密块状集合体。主要产地为北京昌平。参见蔷薇辉石。

  • 经济型不锈钢

     经济型不锈钢  resource-saving stainless steel  又称资源节约型不锈钢,铬、镍含量较低的铬锰氮系、铬镍锰氮系不锈钢,因铬、镍含量较低可明显节约相对稀缺的镍资源,同时导致其价格较便宜,故称为经济型不锈钢。经济型不锈钢尽管耐蚀性略低,但在很多实际工业或民用器件上完全可满足耐蚀性的要求,同时可大幅度降低钢材价格,因而具有广泛的发展和应用前景。餐厨用具、家用装饰构件多采用经济型不锈钢。

  • 晶格反演

     晶格反演  lattice inversion  从晶格体系结合能反演出晶体中原子相互作用对势的方法和关系式。其基础是发现任意晶体中隐藏的半群结构,近年来发展出界面两侧原子相互作用势。

  • 晶格失配

     晶格失配  lattice mismatch  在两种晶格常数不完全相同的晶体材料构成的界面附近晶格的连续性被破坏的现象。

  • 晶界

     晶界  grain boundary  晶体内点阵相同而取向不同的两个晶粒之间的相邻边界。金属与合金的微观结构是由许多晶粒组成,晶粒(grain) 是材料内部原子排列的相同的一部分,但是对相邻的晶粒来说原子排列的取向往往是不同的,晶界是把各个晶粒分开的界面。一般的晶界是非共格界面,即晶界两侧的点阵不存在明显的对应关系,晶界上的原子不能有序的堆积,因而晶界上的原子比晶体内部的原子具有较高的能量,例如一般的大角晶界(位向差大于15°)。对一般单晶或多晶体中的一个晶粒内,也可以出现较小取向差的晶块(取向差小于) ,通称为亚晶粒(subgrain) ,亚晶粒之间的晶界(亚晶界)上原子错排区域,结构比较简单,可看为由位错行列拼成的半共格界面。对完全共格的晶界原子在界面上没有任何失配,金属中共格孪晶界就是一个例子。晶界的存在对合金的行为如形变、相变过程,化学变化以及有关的各项性能起了极为重要的影响,因而在金属与合金的冶炼及热处理过程中,对晶粒度的控制是获得材料优良性能的一个重要因素。

  • 活化

     活化  activation or conditioning  使燃料电池的性能达到最大值的过程。活化一般是在特定条件下运行燃料电池而使其发挥出最大潜能。活化所作用的主要对象是电极,活化过程就是增加电极中的三相界面从而提高催化剂利用率的过程。活化所作用的次要对象是固体聚合物电解质,活化过程就是增加其含水量从而提高其传导离子的能力。

  • 活化反应蒸镀

     活化反应蒸镀  activated reactive evaporation deposition  在蒸发源和基片之间增设活化电极,进行气体放电,使反应气体和金属蒸气激活和电离,促进化学反应的蒸镀技术。活化电极用钼丝等高熔点金属做成环状电极,并施加20~70V正偏压。在镀膜时,高压电子束流从膜材金属锭中激发出二次电子,在活化极正偏压的作用下,二次电子被加速,向活化极运动,提高了坩埚上方的电子密度,从而增加了膜材原子产生碰 撞电离的概率。金属蒸气原子和反应气体激发为高能离子和高能中性原子,提高了成膜粒子的活性,降低了形成化合物涂层所需的能量,可在较低温度下反应沉积形成化合物涂层。以形成氮化钛涂层为例,在化学气相沉积中,需在1000℃高温下形成,而在活化反应离子镀技术中,只需在200~500℃区间形成。在活化反应蒸镀技术中,在基片上施加负偏压,还可进一步提高膜层粒子的离化率和能量,更有利于进行活性反应沉积,这种技术叫做活化反应离子镀。

  • 活化期

     活化期  见适用期(690)

  • 活化烧结

     活化烧结  activated sintering  用物理的或化学的方法促进烧结的过程或为提高制品性能所采取的有利于烧结的措施。铁粉通过卤化氢气体的活化,可控制铁粉表面氧化物的厚度;钨和钼在水汽、CO2;烧结;钴粉中加入氢化物;铬的表面氧化与Al2O3的固溶;加入TiH2使不锈钢烧结等归入化学法。液相烧结、铁基合金加入磷和硼粉、超声波、磁场、热压、热等静压和真空烧结等为无化学反应促进烧结的方法,称为物理法。活化烧结因烧结对象不同而异,尚无系统理论,多靠数据积累。如钨粉烧结温度为3000℃,是一个需高温装置才能烧结的难烧结材料,但若外加0.5%的羰基镍粉或超细钨粉,便可在1400℃左右完成烧结。寻找和利用活化烧结技术,对粉末冶金烧结是很重要的。不断解决难烧结材料的活化问题,应是烧结技术进步的重要标志。