高比容钽粉　 tantalum power with high specific capacity　 是针对片式电容器开发的高电容量钽粉,其金属杂质元素含量≤10×10-6水平,其电容量一般在4000~15000μF·V/g。其制取方法有气相镁还原法、钠还原法、氧化钽碳还原钽粉烧结法等,用于生产笔记本电脑、收集、便携式消费类电器用电容器。

　高纯钨　 high-purity tungsten　 纯度达到99.999%和99.9999%,记为5N和6N的纯钨。高纯或超纯钨最好选用铀和钍的仲钨酸铵作原料,通过多次再结晶去除其他杂质,后经煅烧得到三氧化钨,还原成钨粉;再压形、烧结和电子束悬浮区域熔炼和磁控溅射等方法制备高纯钨材。高纯钨的纯度是通过检测它的各种杂质元素的含量之和来确定的,这需要采用特殊的高灵敏度的分析方法,如中子活化分析、二次离子质谱分析、辉光放电质谱分析等。高纯钨及其硅化物用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等,它们是高技术用的新材料。

　高磁导率合金　 high permeability alloy;permalloy;supermalloy　 又称坡莫合金或超坡莫合金,在弱磁场下具有极高磁导率的铁镍系软磁合金。该系合金镍含量较高(74%~82%),为提髙电阻率、改善工艺性能,在Fe-Ni二元合金中常加入Mo、Cr、Cu等元素,最常用的合金有79Ni-4Mo-Fe、77Ni-4Mo-5Cu-Fe和79Ni-5Mo-Fe等。除Fe-Ni系合金外,属于高磁导率合金的还有铁硅铝合金和非晶态钴基合金。高磁导率合金的软磁性能优异,起始磁导率μi为37.5~125mH/m,最大磁导率μm可达125~375mH/m,矫顽力Hc为0.8A/m,电阻率ρ为60~85μΩ·cm。合金采用真空感应炉熔炼,经热冷塑性变形制成冷轧带材、冷拉线材或热轧(锻)板材和棒材。合金磁性对热处理很敏感,通常采用干氢或真空高温(1200~1300℃)退火,缓冷至600℃再快冷至室温。这类合金适于在交流弱磁场下应用,用来制作声频变压器、互感器、磁放大器、磁调制器、扼流圈、音频磁头等。

　高导电铜合金　 high conductive copper alloy　 高导电铜合金成分中铜含量大于99%,且强度中等偏低。最常用的是KFC-1/2H、C1220、C19210等。高导电铜合金一般用于对导电及散热要求高的场合,例如功率器件引线框架及其连接条、TO-92分立器件引线框架等。

　高等向性模具钢　 isotropy die steel　 横向韧性和塑性超过纵向性能60%的大型模具钢称为高等向性模具钢。大部分模具工作时是多向受力的,受力状态较为复杂,因而要求模具钢的性能特别是韧性和塑性应该是各向同性的。对大型模具钢来说,由于冶金质量、凝固缺陷、成分偏析、碳化物粗大等问题,一般情况下其横向的韧性和塑性仅为纵向性能的30%~40%。通过真空冶炼和炉外精炼尽可能降低模具钢中的杂质元素和夹杂物含量;采用多向锻造或交叉轧制工艺并优化热加工工艺参量,使枝晶组织和粗大的碳化物破碎细化;热加工及热处理时避免表面氧化脱碳提高钢材表面质量;可明显改善模具钢的横向韧性和塑性,得到高等向性模具钢。

　高反射膜　 high reflecting film　 具有增加反射功能的光学薄膜。一般分为两大类,金属反射膜和全电介质反射膜,或两者结合起来的金属电介质反射膜。金属反射膜利用一般金属具有较大的消光系数,进入金属内部的光振幅迅速衰减,光能相应减少而增加反射光能。因此,一般选择消光系数较大、光学性质较稳定的金属作为金属反射膜材料,如铝、银、金、铜等。由于铝、银、铜等金属在空气中极易氧化,因此,采用这些金属作反射膜还必须在膜的外侧加镀一层保护层,如二氧化硅、氟化镁、一氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽,缺点是光损耗大,反射率不可能很高。全电介质反射膜的增反作用是基于多束干涉效应。在光学元件表面上镀一层光学膜,与增透膜相反,选择该膜材的折射率高于作为基底的光学元件的折射率,可提高元件光学表面的反射率。此外,还可以采用多层膜系,最简单的多层反射膜是由高、低折射率的两种材料交替蒸镀的各层光学厚度为λ0/4的膜系,这在理论上可得到反射率无限接近于1的高反射膜。

　高反式-丁苯橡胶 　 high trans-styrene-butadiene rubber　 以反式结构为主(大于76%)的丁二烯和苯乙烯的共聚物。合成方法采用配位聚合和阴离子聚合。相比较而言,阴离子聚合体系在聚合过程和产品性能方面有优势。阴离子聚合引发剂体系有多金属体系,如Li/Mg/K体系;双金属体系,如Li/Ba体系。高反式丁苯橡胶拉伸强度大,抗湿滑性能优异,能够用于轮胎等领域。

　高反式聚氯丁二烯橡胶 　 high trans-chloroprene rubber　 又称古塔波式氯丁橡胶。是指反式结构含量大于93%的聚氯丁二烯橡胶。

制备方法是将氯丁二烯单体预冷至-180~-130℃生成氯丁二烯大晶体,通过辐射聚合,制得高反式聚氯丁二烯橡胶。该种橡胶在25℃下密度为1.24g/cm3,玻璃化转变温度为-45℃,软化点为70~80℃,门尼黏度为20~30s,分解温度为230~260℃,可溶于三氯甲烷、苯类等有机溶剂。高反式含量使得其结晶速率在所有氯丁橡胶中最快,且结晶性能比普通氯丁橡胶更好,故硬度较大,物理机械性能和加工性能较好,具有耐油、耐氧化、耐燃烧、耐酸碱、耐化学试剂等特点,缺点为耐寒性能以及储存稳定性能比较差。主要用于电线电缆、耐热传送带、桥梁和矿井的支撑垫以及工业用衬里等模压制品。

　高分子表面活性剂　 polymer surfactant　 是指能够显著降低液体表面张力的高分子化合物,包括天然高分子表面活性剂和合成高分子表面活性剂。与低分子表面活性剂一样,高分子表面活性剂由亲水部分和疏水部分组成。高分子表面活性剂可以分为阴离子型、阳离子型、两性型和非离子型等四类。阴离子型高分子表面活性剂有聚(甲基)丙烯酸(钠)、羧甲基纤维素(钠)、缩合萘磺酸盐、木质素磺酸盐、缩合烷基苯醚硫酸酯等。阳离子型高分子表面活性剂有氨基烷基丙烯酸酯共聚物、改性聚乙烯亚胺、含有季铵盐的丙烯酸酰胺共聚物、聚乙烯苯甲基三甲铵盐等。两性离子型的高分子表面活性剂有丙烯酸乙烯基吡啶共聚物、丙烯酸-阳离子丙烯酸酯共聚物、两性聚丙烯酰胺等。非离子型的高分子表面活性剂有羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧乙烯类共聚物等。与低分子表面活性剂相比,高分子表面活性剂具有较高的分子量,渗透能力差,可形成单分子胶束或多分子胶束;溶液黏度高,成膜性好;具有很好的分散、乳化、增稠、稳定以及絮凝等性能,起泡性差,常作消泡剂;大多数高分子表面活性剂是低毒或无毒的,对环境友好;降低表面张力和界面张力的能力较弱,且表面活性随分子量的升高急剧下降,当疏水基上引入氟烷基或硅烷基时,其降低表面张力的能力显著增强。高分子表面活性剂广泛用于强化采油、药物载体与控制释放、生物模拟、聚合物LB 膜、医用高分子材料(抗凝血)、乳液聚合等领域。

　高分子催化剂　 polymeric catalyst　 是指一类对化学反应具有催化作用的高分子。主要可分为天然高分子催化剂和合成高分子催化剂两大类。前者如酶,后者如固定化酶、模拟酶和高分子金属催化剂等。自然界的酶在常温常压下具有很高的活性和选择性以及一定的稳定性,是合成高分子催化剂追求的目标。合成高分子催化剂按其组成又可分为有机、含金属和无机高分子催化剂。这类催化剂多以有机或无机高分子为骨架,在骨架上连有各种具有催化作用的功能基团。它们不仅具有很高的活性和选择性,而且比较稳定,分离、回收方便,可以重复使用,有的还具有光学活性等特殊的机能。目前已应用到各种有机反应、有机合成及某些高分子合成反应中。

　高分子的二级结构　 见远程结构(892页)。

　高分子分级　 fractionation　 根据化学组成、相对分子质量、支化、立体规整度等结构特征,将具有多分散性的高分子按照某一特征分离成若干级份的过程。主要包括:①沉淀分级——基于高分子在溶剂中溶解度的差别使高分子溶质按溶解度自小至大分离出若干级份的过程。②洗脱分级——基于高分子对色谱柱中介质材料吸附性的差别,通过逐渐改变淋洗溶剂的组成或沿色谱柱方向逐渐改变温度而将高分子溶质按溶解度的变化分离成若干级份的过程。

　高分子各向同性膜　 symmetric membrane　 又称高分子对称膜。指化学和物理结构与性质、孔隙率在各个方向相同的膜。

　高分子共混物　 polyblend;polymer blend　 两种或两种以上高分子的混合物。对于大多数高分子与高分子的混合,由于高分子的分子量很大,混合时熵的变化很小。混合过程一般又是吸热过程,所以,混合自由焓是正值,不能达到分子水平的混合,因此形成非均相混合物,即所谓多相体系。只有少数例外,如聚苯醚/聚苯乙烯和丁腈橡胶/聚氯乙烯共混体系。

　高分子冠醚　 polymer with crown ether　 冠醚指含有多个氧原子的大环化合物,高分子冠醚指的是键合有冠醚基团的高分子材料。