高双折射光纤　 high binefrigence optical fiber;polarization-mainfaining fiber;HB fiber;PM fiber　 又称保偏光纤。在光纤制备中,人为地使双折射率(B)很大,或其拍长度λs短到毫米量级的光纤,简称HB。从偏振光学上看,如果把一般单模光纤当作各向同性介质,则保偏光纤就相当于双折射率很大的单轴晶体。事实上,只有输入线偏振光的偏振方向沿光纤的主轴方向传输时,光纤才能保偏,其他方向注入并不能保持偏振方向在传输中不变,输出光一定是椭圆偏振光。HB光纤(或简称PM光纤)在光纤通信与光纤传感技术中有十分重要的应用。

　高顺式 1,4-聚异戊二烯橡胶 　 high-cis-1,4-polyisoprene rubber　 是指含顺式1,4-结构大于96%以上的橡胶,简称异戊橡胶。主要采用溶液聚合方法生产,采用钛系催化剂(如TiCl4-AlR3或TiCl4-聚亚胺烷基铝等)、锂系催化剂以及稀土催化剂等在烷烃中聚合制得,可在轮胎等橡胶制品和电缆工业中代替天然橡胶。

　高速钢　 high speed steel　 用于高速切削金属的高合金工具钢。原则上属于合金工具钢,但因其性能与用途的特殊性,很多情况下将其分列为一类工具钢。高速钢具有很高的红硬性,当切削工作温度高达600℃左右时,硬度仍无明显下降,因而可比低合金刃具钢采用更高的切削速度从而由此得名。高速钢的淬透性很高,空冷就可淬硬,为了使残余奥氏体能够完全转变为马氏体同时使合金碳化物大量析出产生二次硬化作用,往往采用多次高温回火,由此热处理后具有很高的硬度、耐磨性和足够的高温强度及红硬性。高速钢(GB/T 9943—200)成分特点为高碳含量(0.8%~1.6%)以及高合金元素(W、Cr、Mo、V、Co等)含量。通常可分为钨系和钼系两大类,有时还加上高碳高钒高速钢、钴高速钢、超硬高速钢而成为五种类型。近年来还广泛使用粉末高速钢。

　高速压制　 high velocity compaction;HVC　 使用重锤产生强烈的冲击波,在0.02s内将能量通过压模传给粉末进行致密化,间隔0.3s的一个个附加的冲击波可将密度不断提高,使材料的性能更加优异,成本更加低廉,采用该技术可利用比传统压制小的设备生产超大零件。HVC技术通过强烈的冲击波进行压制,使P/M零件达到高密度,它不仅可以使零件高致密化,而且可以使其密度均匀化。HVC可能是粉末冶金工业寻求低成本高密度材料加工技术的又一次新突破。

　高弹平台区　 high elastic plateau;rubbery plateau　 又称橡胶平台区。高分子松弛谱上高弹性基本达到平衡态的温度、时间或频率范围。

　高弹态　 high elastic state;rubbery state;elastomeric state　 又称橡胶态。高分子在玻璃化温度以上,其力学行为呈现类似于橡胶的力学行为,在加载卸载后,其变形回复可达500%~1000%,且回复迅速。高弹态高分子中的链段可运动,是高分子特有的一种物理状态。

　高碳高钒高速钢　 high vanadium high speed steel　 钒含量一般在3%以上、碳含量在1.2%以上的高速钢。热处理后钢中存在大量立方MC 型碳化物,立方MC型碳化物比M2C、M23C6型碳化物的尺寸细小且热稳定性更高,故高钒高速钢适宜制作特别耐磨的刀具和机械零件。但该类钢的可磨削性较差,制作形状复杂的精密刀具较为困难。代表钢号有W6Mo5Cr4V3(M3)、W12Cr4V4Mo(德国EV4)、W12Cr4V5Co5(T15)等。

　高铁氧化剂　 ferric oxidant　 主要成分为铁的六价化合物——高铁酸盐,是以阴离子Fe的形态存在的强氧化剂,主要用于水处理。其制备方法主要有:高温熔融氧化法、次氯酸盐氧化法、电解法等。高温熔融氧化法:在苛性碱存在的条件下,以硝酸钾或过氧化物等氧化剂在高温下将铁盐或铁的氧化物氧化成高铁酸盐;次氯酸盐氧化法:在NaOH溶液中通入Cl2使其充分饱和,生成NaClO,然后在强碱性条件下使NaClO氧化Fe3+生成Na2FeO4;电解法:在强碱性介质中,铁阳极被氧化成Fe,阴极发生析氢反应。高铁酸钾具有氧化、吸附絮凝或助凝及杀菌消毒等作用。高铁酸盐通过氧化作用可杀灭水体中大肠杆菌、伤寒杆菌及病毒,去除率在99.5%~99.95%,也可有效去除多种有机污染物;高铁酸盐在水中分解形成的氢氧化铁胶体具有吸附絮凝作用或助凝作用,可以吸附絮凝水体中的胶体颗粒或细小的絮体,净化水质。

　高温超导电流引线　 high temperature superconducting current leads　 电流引线就是指导线,用来传输电流,至于高温超导电流引线,就是通过超导材料来代替普通的导线,如铜丝或银丝。目前,高温超导电流引线主要由Bi2223超导材料和Ag-Au合金复合制作而成。

　光学反射膜　 optical reflecting coating　 增加光学表面镜面反射率的一类光学薄膜。在光学仪器和光学系统中,反射膜和增透膜同样重要,常用于反射、折射和共振腔元件。按薄膜材料的不同,可分为金属反射膜、电介质反射膜和金属电介质反射膜;按工作波段,可分为红外反射膜、可见近红外反射膜、紫外反射膜和X射线反射膜;按使用要求,分为部分反射膜、高反射膜和全反射膜;按反射带的宽窄,分为单波长反射膜、多波长反射膜和宽带反射膜。金属反射膜通常由一定厚度的铝、银、金等金属材料构成。它们的反射率主要取决于薄膜材料的光学常数。电介质反射膜一般由光学厚度为工作波长的25%,高、低折射率的膜层交替构成。其反射率随层数的增加而增加,在理想情况下,可以无限接近100%。金属电介质膜是由金属膜加若干层电介质膜构成的。它可以获得比金属膜更高的反射率和期望的光谱特性。金属反射膜和电介质薄膜都会由于吸收、散射损耗、影响其反射率。在反射膜研制过程中,一个很重要的问题是通过选择薄膜材料和沉积工艺,降低散射吸收损耗。制备反射膜最常用的方法是热蒸发。用低压离子镀和离子束溅射技术可以得到更致密、更光洁、更稳定的反射膜。

　光学金相　 optical metallography　 用光学显微镜观察和研究金属材料显微组织的传统技术。其基本方法是:将金属表面磨光、抛光为镜面,然后放在一定的介质中浸蚀。不同的相或界面被浸蚀的程度不同,在光学显微镜下观察时,由于反光能力的差别而被显示出来,借此可以研究金属中各种组成相的大小、数量、形状及其分布特征。金相显微镜是光学金相技术的主要设备,有台式、立式、卧式,最高放大倍数可达2000 余倍。光学金相是研究金属的成分、工艺、显微组织和性能关系的重要手段。

　光学偏振膜　 optical polarizing coating　 用来产生偏振光或抑制薄膜偏振效应的一类光学薄膜,又称薄膜偏振片。按几何结构的不同,可分为棱镜型偏振膜和平板型偏振膜。棱镜型偏振膜一般位于两个对称的直角棱镜的中间,并且使光束在膜层的界面上实现布鲁斯特角入射。这时,平行入射面的光(p分量)高透过,而垂直入射面的光(s分量)高反射,从而实现偏振分光。运用不同膜系和不同几何结构,用棱镜偏振膜可以产生部分偏振光、椭圆偏振光、圆偏振光和线偏振光。平板型偏振膜的基本原理建立在光束斜入射时薄膜偏振效应的基础上,为了方便,入射角常选择基体材料的布鲁斯特角。这时,在一定波长范围内,p分量具有高透射,s分量具有高反射,形成偏振光。有些光学薄膜的光学效果是抑制薄膜的偏振效应,通称消偏振膜,其实质也是一种偏振膜。在现代光学系统和光学仪器中,偏振膜可以代替双折射晶体,作为偏振元件或偏振调制元件。平板型偏振膜很容易做得很大,而且具有低损耗和高破坏阈值,常在激光系统中用作腔内偏振元件和隔离元件。

　光学织构　 optical texture　 液晶薄膜试样在正交偏光显微镜下呈现的形貌。

　光折变材料　 photo-refractive materials　 具有由光引起折射率改变的电光材料。这种材料可吸收外来光子而产生介质内电荷的迁移(漂移、扩散、跳跃等),电荷分布的改变形成一空间电荷场,然后通过电光效应使折射率受到调制。产生光折变效应的必要条件是介质对光有吸收,且介质中存在自由电荷和该介质具有非零电光系数。根据材料的带隙和电光系数,折射率的改变不仅可由可见光辐照引起,还可由紫外或红外辐照引起。促进光折变材料研究的主要动力:① 利用这种材料,只需用低功率连续激光,就可在室温下进行多种不同光学信号处理和运算;② 光折变材料的光学非线性非常高,实验中可以产生许多新过程和新现象。对此种材料的研究也因为有许多需要平行计算的应用,这类应用要求对大量光学数据进行处理,或要求在较短时间内完成目前超级数字计算机难以胜任的计算量。光折变材料可分为三类:① 铁电型光折变材料;② 非铁电型光折变材料;③ 半导体化合物。

　光折变记录材料　 photo-refractive recording materials　 有机记录介质在光的作用下发生化学反应,引起结构改变,导致折射率变化,从而实现记录物体图像的非银光敏材料。常用的光折变有机记录材料分两类:一是丙烯酸类单体的光聚合型材料;另一类是丙烯酸酯类聚合物的光热交联型材料。前者依据单体的光引发聚合,后者依赖光引发交联和热收缩导致折光性能变化,而获取图像。光折变记录材料也可用于全息图像记录,其记录过程是由激光器产生的相干光照射被记录物体,产生衍射光波。然后与参比光波发生相干,使具有一定强度分布的干涉光波作用在记录介质上,引发聚合或交联作用,导致折光性能变化,记录物体的全息图。当用参比光照射全息图时,可使原物图像复原。其中光聚合型材料的能量感光度可达10-3J/cm2,光谱感光范围在280~700nm,分辨率可达1000线(对)/mm,主要用于特殊全息照相和光学信息处理过程中,如随机存储系统、自动化、实时全息照相等。