光刻胶　 photoresist　 又称光阻。泛指一类集成电路、半导体分立器件、显示器件等制造过程中光刻工序的辅助材料。光刻胶通常由感光树脂基体、增感剂、交联剂以及溶剂等成分组成。按照感光树脂与增感剂化学结构以及光谱吸收特性的不同,光刻胶可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束光刻胶、X射线光刻胶等不同种类。经特定光源辐照后,光刻胶的曝光区发生化学反应,使得其溶解性能发生明显变化。经显影液处理后,可溶性部分被去除,从而得到所需电路图形。光刻胶按照光化学反应机制的不同可分为负性光刻胶和正性光刻胶两类。曝光后,光照部分发生交联形成不可溶物质的为负性光刻胶;反之,曝光区发生降解反应而形成可溶性物质的为正性光刻胶。

　光老化　 light aging　 材料在光照下性能随时间的变化现象。在材料的使用过程中,日光照射是一种常见的环境。塑料、涂层等高分子材料在受到日光照射的长期使用过程中,经常出现变色、气泡、粉化、裂纹、脱落等现象,这都属于光老化的范畴。光老化本质上是一种降解反应,当辐照的光能大于化学键键能的时候,化学键会发生断裂,从而导致物理化学性质发生变化。大多数高分子材料在波长为230~447nm光源照射下都会出现不同程度的老化。在新材料的研发中,常常采用人工加速光老化的方法,包括利用碳弧灯、荧光紫外灯、氙弧灯、金属卤素灯等人造光源,模拟日光照射环境,研究材料性质的变化。

　光敏变色纤维　 chameleon fiber　 指随外界光照度的变化而能发生色泽可逆变化的纤维,其色泽变化往往与温度和湿度变化也有一定关系。例如用这种纤维做的衣料,在阳光照射下,有的呈橙色、灰色或青色,而置入室内则各变为蓝灰、青色和无色。制法主要有以下三种:①在纤维中添加具有光敏变色功能的化合物如含结晶水的钴盐,就可利用它随光和湿度变化而会呈现不同色泽的特性,制取光敏变色纤维,添加方式一般是在聚合物切片中加入,然后再成纤;②采用“染色法”,如将纤维用二苯基硫代咔唑衍生物和汞、钯等二价或三价金属化合物进行染色而得,它受光照射时能从灰色变为青色;③直接合成法,如合成含硫衍生物的聚合体,然后纺成纤维,它能在可见光作用下发生氧化还原反应,在光照和湿度变化时,颜色可由青色变为无色。主要用于制作变色服装,应用于外装材料或部队军服有的可用于湿度传感元件等。

　光敏剂　 photosensitizer　 又称增感剂、敏化剂。有些物质不能直接吸收某波长的光,即对光不敏感,但若在体系中加入另外一种物质,该物质能吸收这种光辐射,并把光的能量传递给反应物,使反应物能够发生化学反应,所加入的这种物质就称为光敏剂,所引发的光化学反应称为光敏化反应。通常,人们把有氧分子参与的伴随生物效应的光敏反应称为光动力反应,把可引发光动力反应破坏细胞结构的药物称为光动力药物,即光敏药物。光敏剂需要具备以下条件:①自己能首先被光照射激活;②在体系中有足够的浓度,且能吸收足够量的光子;③必须能把自己的能量传递给反应物。光敏试剂一般分为芳香族酮类和安息香醚类,如苯甲酮、安息香二甲醚等。

　光敏胶黏剂　 photosensitive adhesive　 又称光固化胶黏剂、感光胶黏剂或光敏抗蚀胶等。一种依靠光能引发固化的胶黏剂。其中紫外光固化型光敏胶黏剂,由含不饱和键的单体或者预聚物加上光敏剂及改性剂组成。适用于透光材料或者金属、塑料、陶瓷、光学透镜等粘接,尤宜于自动化流水线的装配工艺,在电子工业中用于光刻制造微型电路板等。

　光敏陶瓷　 light-sensitive ceramics　 材料的电参量随环境光学参量变化而变化的陶瓷材料。按照光敏效应可分为:①光电池效应材料,如硅光二极管材料;②光电效应材料,如CdS、CdSe等。按其制造方法可分为单晶型、烧结型和薄膜型;③光电子发射效应材料,如GaAs、Sb-Cs、Na-K-Sb-Cs型等;④热释电效应材料,如LiNbO3、LiTaO3、PbTiO3、BaTiO3、PZT、PLZT、Sr1-xBaxNb2O6等。

　光敏引发剂 　 photoinitiator　 在紫外或可见光照射下能形成自由基或阳离子用于引发单体聚合的物质。光引发剂按光解机理分为自由基聚合光引发剂和阳离子聚合光引发剂两大类。自由基型光引发剂按产生自由基的作用机理分为裂解型光引发剂和夺氢型光引发剂,按分子结构特点分为苯偶姻及衍生物、苯偶酰类、烷基苯酮类、酰基磷氧化物、二苯甲酮类、硫杂蒽酮类。阳离子型光引发剂包括二芳基碘盐、三芳基碘盐、烷基碘盐、异丙苯茂铁六氟磷酸盐等。

　光钳　 optical tweezer　 是使激光发挥钳子的作用,以捕捉传送微小物体的技术。因其目标物的大小在微米级以下, 因此, 对以往无法操作的小物体可实施精密操作。光钳技术的基本原理是激光通过光路系统偶合到显微镜,从而能够精确地捕捉生物粒子。光钳技术精确度高,目标性强,目前捕获到的粒子一般在几微米的范围内,非接触式,它可以隔着透明的障碍物, 如玻璃或生物体的表皮对其内部的器官进行操作。与其他方法比较, 光钳可将对粒子的损伤降至最小,用光钳技术可以在不改变活细胞的生态环境下对细胞进行捕获与操作。光钳对所操作的生物材料的唯一危险是辐射损伤, 可以通过选择适宜的激光波长而降至最低。

　光强度　 luminous intensity　 又称发光强度,简称光强。是一光源所发出的在给定方向上单位立体角内的光通量。用于表示光源给定方向上单位立体角内发光强弱程度的物理量,国际单位为坎德拉,符号:cd,以前又称烛光。与通常测量辐射强度或测量能量强度的单位相比较,发光强度的定义考虑了人的视觉因素和光学特点,是在人的视觉基础上建立起来的。其物理表达式为:

I=

式中,Φ为光通量;Ω为立体角。

　光纤　 optical fiber　 见通信光纤(749页)。

　光学保护膜　 optical protecting coating　 沉积在金属或其他软性易侵蚀的材料或薄膜表面,增加其牢固性和稳定性,改进其光学性质的一类光学薄膜。最常用的是金属保护膜,它可以保护金属镜面不受外界侵蚀而降低质量,又可增加镜面的机械强度。常见的金属镜保护膜材料有SiO2、Al2O3和MgF2等。保护膜不仅可以增加镜面的牢固性和稳定性,还可以与被保护的材料或薄膜进行光学匹配,以改进其光学性质。光存储材料的保护膜不仅可以隔绝空气和基体材料对存储材料的侵蚀,提高光盘的稳定性和寿命,而且通过匹配设计,提高它的写入灵敏度和载噪比。介质保护膜不仅用于金属、半导体,而且还用于介质膜本身。激光薄膜中的保护膜,可以用来提高薄膜的抗激光强度。

　光学玻璃　 optical glass　 用于制造光学仪器或机械系统的透镜、棱镜、反射镜、窗口等的玻璃材料。通过折射、反射、透过方式传递光线或通过吸收改变光的强度或光谱分布,具有稳定的光学性质和高度光学均匀性。

　硅藻土砖　 diatomite brick　 采用天然多孔硅藻土为主要原料,加入结合黏土,经混炼、成型、干燥和烧成工序制成不同形状的砖块。最高使用温度900~1000℃,用作中温隔热层。

　硅砖　 silica brick　 SiO2含量在93%以上的酸性耐火制品,主要矿相为鳞石英和方石英,以及少量残余石英和玻璃相。用于焦炉、玻璃熔窑等。

　LUMO轨道　 见最低非占有分子轨道(945页)。