真空碳脱氧　 见真空脱氧。

　氧化石墨　 graphite oxide　 通过强氧化剂处理石墨而得到,石墨层状结构未被破坏,氧进入石墨层面间并与之结合,形成膨胀的层状化合物。主要成分是碳、氢、氧等,但比例不定,随制备条件等而不同。迅速加热至1000℃左右时,层间膨胀,得到凝胶化膨胀石墨。

　氧化石墨烯　 见石墨烯氧化物(686页)。

　氧化物电致变色陶瓷　 oxide electrochromic ceramics　 即具有电致变色效应的过渡金属氧化物薄膜材料。在电场的作用下可发生离子与电子的共注入和共抽出,从而导致材料的价态和化学组分或结构发生可逆变化,引起透过与反射特性的变化。根据着色机理的不同,可以分为两大类:①阴极着色材料,可在负的电压作用下着色,如WO3、MoO3、TiO2、Nb2O5;②阳极着色材料,可在正的恒电压作用下着色,如NiOx、IrOx等。电变色材料的主要参数是其太阳光谱透过与反射特性的变化幅度,取决于材料的制备工艺和结构特征。一般较多采用的方法有溅射、蒸镀、化学气相沉积、电化学沉积、溶胶-凝胶、热氧化等。与其他变色材料相比,电致变色材钊具有主动动态控制的特点。仅在变色过程中需要能量的供给,所需的电压很低(<5V),同时具有变色后的记忆效应。其主要作为机敏窗口材料应用于建筑物采光自动控制,可对投入建筑物的太阳辐射强度和窗口的红外辐射特性进行主动动态调节,使室内既能保持最佳照明环境,又能节省室内温控的能量。此外,电变色材料还可在汽车玻璃、大屏幕显示等方面获得重要应用。

　氧化物湿敏陶瓷　 oxide humidity-sensitive ceramics　 物理参量(常用电阻或电阻率)随相对湿度变化而发生显著变化的氧化物陶瓷。金属氧化物湿敏陶瓷元件的陶瓷烧结体物理和化学状态稳定,可以用加热去污方法恢复元件的湿敏特性,而且烧结体的表面结构极大地扩展元件表面与水蒸气的接触面积,使水蒸气易于吸着和脱去,还可通过控制元件的细微构造使物理性吸附占主导地位,获得最佳的湿敏特性,因此使用寿命长、元件特性稳定,是目前最有可能成为工程应用的主要湿敏元件之一。在诸多的金属氧化物陶瓷材料中,由铬酸镁-二氧化钛固溶体组成的多孔性半导体陶瓷是性能较好的湿敏材料,它的表面电阻率能在很宽的范围内随着湿度的变化而变化,而且能在高温条件下进行反复的热清洗,性能仍保持不变。

　氧化物陶瓷　 oxide ceramics　 由一种或数种氧化物制成的陶瓷。按组分可分为单一氧化物陶瓷,如氧化铝、氧化铍、二氧化钛陶瓷等;复合氧化物陶瓷,如尖晶石MgO·Al2O3,莫来石3Al2O3·2SiO2、锆钛酸铅PZT陶瓷等。通常具有较高的熔融温度,在氧化气氛中非常稳定。有较高的机械强度、电绝缘性能和化学稳定性。除氧化铍陶瓷外,其导热性较低。通常采用超细粉配料并加入少量烧结促进剂和改性添加剂。按制品形状及性能要求可采用热压铸、干压、等静压、流延、挤制、注浆等多种成型方法。大多数制品在氧化气氛中烧成,有时也采用真空、氢气或控制气氛烧结。氧化物陶瓷品种繁多,用途极为广泛,可作为结构材料,功能材料和高级耐火材料,用于电子、信息、激光、红外、计算机、宇航、原子能、化工、冶金等许多领域。

　氧化物陶瓷涂层材料　 oxide ceramic coating　 指涂覆在医用金属基体表面上的一种生物惰性的氧化物陶瓷保护层或表面膜。研究较多的有氧化铝、氧化锆、氧化钛等单组分或多组分共混的陶瓷涂层,由于其具有很好的耐磨损和耐腐蚀性能,且其生物相容性好,可有效阻隔金属离子向周围组织溶出,利于肌肉等软组织在植入体表面攀附生长。其制备方法多样,主要有等离子喷涂法、化学气相沉积、物理气相沉积、高温自蔓延法、溶胶-凝胶法等。主要用于人工牙根、人工关节柄、关节臼、外科和牙科用器械等。

　氧化物压敏陶瓷　 oxide voltage-sensitive ceremics　 具有电压电流非线性现象(压敏效应)的半导体氧化物陶瓷。目前已开发成产品并大量应用的氧化物压敏陶瓷主要有以ZnO为主晶相和以SrTiO3为主晶相的两类材料。其他研究较多的还有TiO2、SnO2、WO3陶瓷等。为了改善压敏特性,通常需要引入添加成分,如:在ZnO压敏陶瓷中引入三价Al以提高ZnO晶粒的导电性,掺入微量受主元素Na、K或Ag等以提高负荷稳定性,添加氧化镍以提高材料的击穿场强等。

　氧化锡膜　 tin oxide film　 组成为氧化锡的膜。它具有四方晶系金红石结构。特点为高导电性,在可见光波段良好的透光性,较高的红外线反射率和紫外线吸收性。氧化锡膜通常用热解化学气相沉积(TCVD)制备,沉积温度在400~800℃。还可以用反应磁控溅射在较低的沉积温度下制备。氧化锡膜作为导电膜,其载流子主要来自晶体缺陷,即O空位和掺杂杂质提供的电子。为提高其透明导电性,常在氧化锡中加入锑离子。氧化锡膜的应用包括:①透明电极,它用于光电元件、太阳能电池、场致发光元件和显示器件;②电阻器;③既透光又能反射红外的窗玻璃节能膜;④汽车防霜玻璃。与氧化锡类似的透明导电膜还有氧化铟膜,它可用磁控溅射制备。但性能更好的是ITO膜(In2O3∶SnO2=9∶1),通常用磁控溅射或射频反应溅射制备。

　氧化锌丁香油水门汀　 参见氧化锌丁香酚水门汀(842页)。

　氧化锌晶须抗菌材料　 zinc oxide whiskers antibacterial materials　 氧化锌晶须外观呈白色疏松状粉体,微观为三维四针状立体结构,任意两根针状体的夹角为109°,晶须的中心体直径为0.7~1.4μm,针状体长度为3~200μm。氧化锌晶须的针尖部位为具备特殊的表面效用和高氧化活性的纳米级,其活性成分能在水分和空气存在的体系中,自行产生出自由电子(e-),同时留下带正电的空穴(h+),并逐步产生以下反应:ZnO+hνe-+h+,e-+O2·O2,h++H2O·OH+H+。产生的带正电的空隙(h+)具有很强的氧化作用,羟基自由基(·OH)和过氧化物阴离子自由基(·O2)有极强的化学活性,可直接将细菌、细菌残骸和毒素灭杀、消除。氧化锌晶须内部载流子可调,其晶格中有极强的氧化活性的原子氧,可破坏绝大多数细菌的生物活性和代谢繁殖功能。氧化锌晶须的网络效应为抗菌离子提供了高效的传输路径。由于细菌通常带负电荷,带正电的锌离子到达细胞膜时,通过库仑引力,二者牢固结合,锌离子穿透细胞膜,进入细胞,与细胞中的硫基反应,使蛋白质变性,从而细胞丧失分裂增殖能力而死亡。氧化锌晶须的制备和生产主要有锌原料预处理法、惰性气体法、液态法、碳还原法和平衡气量控制法。由于抗菌效果好、安全无毒、使用方便、耐温性和耐光性好,并且表现出良好的可见光催化特性,氧化锌晶须抗菌材料广泛应用于多种抗菌、防藻、分解有害有机物和环境净化等领域。

　氧化锌:锌　 zinc oxide activated by zinc 　 ZnO:Zn。白色粉末。难溶于水,可溶于酸和强碱。六方晶系,晶胞参数 a=b=3.242、c=5.176。相对密度5.66。自激活荧光粉,它只是在阴极射线激发下为有效的发光材料。发光颜色是绿白色,发光峰值波长505nm,色坐标x=0.240、y=0.418,衰减时间(10%)2~3μs。合成方法:取荧光纯ZnS,磨细,装在石英舟里,推入石英管管式炉内,通入经净化的空气,于850℃灼烧1.5~2h,出炉后在空气中速冷。经紫外灯下选粉后成产品。ZnO:Zn是一种极短余辉的阴极射线荧光粉,用于飞点扫描管中。由于它在低加速电压下的电子束激发下就能发光,又称为低压或低能电子荧光粉,即在能量低于几百伏的电子束激发下,产生满足一定亮度和光谱分布要求的荧光粉,用在低压荧光数码管中。相类似的荧光粉有ZnO:Zn,Pb,在阴极射线激发下,峰值波长468.5nm,半宽度78nm,色坐标x=0.445、y=0.166。

　氧化钇激光透明陶瓷　 yttria laser transparent ceramics　 由激活离子掺杂的氧化钇(Y2O3)纳米粉体在1750~1900℃真空烧结制得。Y2O3激光透明陶瓷的主要物理化学性质与其单晶材料相同,如熔点为(2420±10)℃,密度为5.01g/cm3,化学和光化学稳定性高,光学透明性范围0.23~8m,热导率约27W/(m·K),20℃,达到YAG材料的2倍,声子能量低,其最大声子截止频率为550~1cm-1,抑制无辐射跃迁的概率,能实现更高的发光量子效应。

　氧化诱生层错　 oxidation induced stacking fault　 指硅片经过氧化后在表面形成的层错,英文简称OISF或者OSF。若硅片表面存在机械损伤、金属及其他沾污,或者硅片中含有某些特定结构的氧沉淀,则硅片热氧化过程中释放的自间隙硅原子可在上述缺陷处聚集形成层错。氧化诱生层错是插入型层错,一般位于{111}面上,周围由Frank不全位错(伯格斯矢量b=1/3<111>)包围。其长大通过攀移进行,生长方向为<110>。氧化诱生层错的形成与诸多因素有关,除了上述形核因素以外,主要还有硅片的晶向、掺杂浓度和导电类型以及氧化温度和时间等。氧化诱生层错会增加器件的漏电流、劣化MOS晶体管的栅极氧化物完整性以及导致p-n结的击穿等。氧化诱生层错密度是衡量硅片质量的重要指标之一。

　氧金属比　 ratio of oxygen and metal　 氧化物或混合氧化物燃料中氧原子与金属原子的比值,符号O/M。O/M>2的称为超化学计量材料;O/M=2的称为化学计量材料;O/M<2的称为欠化学计量材料。O/M比越高,氧势越高,氧化物中的扩散过程越快,与包壳的相互作用越强,滞留裂变产物的能力越低,越易烧结。O/M比对氧化物的热学、化学、物理和力学性能也有显著影响。热中子反应堆使用的UO2,其O/U比应尽可能接近2,而快中子反应堆使用的混合氧化物燃料(U,Pu)O2却要使用欠氧的氧化物(U,Pu)O2-x。